Abstract und Zusammenfassung zu
"Development of in-line power meter for Extreme Ultraviolet (EUV) radiation"
(Entwicklung eines Inline Leistungsmessgerätes für Extrem UV-Strahlung (EUV))

Achtung: der Text ist aus der Master/Diplomarbeit entnommen. Jeder Kandidat ist für seinen eigenen Text verantwortlich!

Zusammenfassung

"XUV-Strahlung besitzt eine Vielzahl von Vorteilen gegenüber anderen Wellenlängen-Bereichen und gewinnt zunehmendes Interesse seitens der Halbleiterindustrie aufgrund der Fähigkeit, kosteneffizient kleinere Strukturen herzustellen als derzeitige UV-Lithografieverfahren. Experimente im EUV-Bereich (1 – 50 nm) sind oft mit Schwierigkeiten behaftet, die abgestrahlte Leistung pro Raumwinkel exakt zu erfassen. In der vorgelegten Arbeit wird ein Experiment vorgestellt, bei dem die emittierte Strahlung in-line, d.h. ohne den Strahlengang zu unterbrechen, gemessen wird. Das Verfahren basiert auf dem Photoeffekt in Bandpass-Metallfiltern, welche die IR- und VIS-Strahlen blockieren und gleichzeitig einen Teil der EUV Strahlung absorbieren. Letzterer Teil überwiegt energetisch den IR- und VIS-Anteil und liefert einen Photoelektronenstrom, der zum Monitoring der Quellleistung eingesetzt werden kann. Im Filter erzeugte Ladung kann mit hoher Genauigkeit in Echtzeit und im Strahlengang gemessen werden. Die Kalibrierung erfolgt mit Hilfe einer Referenzdiode, deren Sensitivität bekannt ist. Aus den gewonnenen Daten kann der Betrag der abgestrahlten Energie sowie die Leistung im EUV-Band berechnet werden. Es wurde ein Interface implementiert, mit dem bis zu drei Signale parallel ausgewertet und visualisiert werden können. Das beschriebene Leistungsmesssystem ermöglicht es dem Nutzer, die von Photonen erzeugte Ladung und somit den Photonenfluss am EUV-Sensor über einen längeren Zeitraum zu messen und für nachfolgende Analysen festzuhalten. Dadurch können EUV-Strahlungsprozesse, z.B. Puls-zu-Puls-Variationen und zeitlicher Verlauf der Emission, über mehrere Stunden und in Echtzeit überwacht werden."

Abstract

"The use of radiation in the XUV range has a number of key advantages over other wavelength regions gaining major interest by the semiconductor industry because of the potential to cost-efficiently print smaller features than the current deep ultraviolet lithography. Running experiments at short wavelengths in EUV range (4 - 40 nm) often face a problem of determination the exact values of emitted power in the selected spectral range and in the selected direction. The present work includes an experiment utilizing short wavelength radiation in EUV range, where determination of the emitted in-line power represent problem. The method presented here is based on the photo effect occurring in band pass metal filters used for cutting visible and infrared spectral components of emitted radiation. The charge generated in the filter can be measured with high precision and in-line as well as monitored in the real time. The calibration of measurement can be performed using mathematical algorithms and then comparison signals from such in-line filters with data from calibrated photodiode based tools in order to know absolute value of the generated radiant energy in EUV band and, finally, emitted EUV power. This power meter system will provide the user, with measured data of charge collected from EUV sensor and calculated values for the photon flux, with the flexibility to have an interface where the stages of the process are graphed and data saved for a following analysis. The proposed solution can help to control the power during many hours as well as monitor generated EUV energy from pulse to pulse in the real time."